LUCD

Opis

Značilnosti zasnove

Dvojno kartušno mehansko tesnilo, dvojno uravnotežene tesnilne površine, neodvisno od smeri vrtenja, vzmeti brez stika s tesnjeno tekočino.

Področja uporabe

Kemična industrija, živilska industrija, tehnologija vode in odpadnih voda, rafinerije nafte, elektrarne, papirna industrija.

Meje uporabe

Tlak p1 maks. 20 bar *) Vg = 20 m/s*) T = -40°C do +200°C**)
*) odvisno od materialov **) odvisno od O-obroča

Standardni materiali

Vrtljiva tesnilna površina: Q1, U1, Q2, U2
Mirovalna tesnilna površina: Q1, U1, A, B